
Sono 31'293 gli studenti e dottorandi iscritti in uno dei due politecnici federali nel 2017, ovvero 1000 unità in più rispetto all'anno precedente e 10mila in più rispetto a 10 anni fa. Lo comunicano in una nota i due istituti di Zurigo e Losanna, che parlano di nuovo record.
La crescita, significativa e costante, dimostra "la forte attrattiva del settore dei Politecnici federali" si legge nella nota. Ad essere interessate da un maggior numero di iscrizioni sono le materie informatica (+7,5%) e scienze dell'ingegneria (+4,1%). In totale nel 2017 hanno ottenuto il diploma di bachelor, master o un dottorato 6'925 persone.
Anche il numero di donne tra gli studenti e dottorandi è costantemente aumentato, raggiungendo quota 30,6%. Tra i collaboratori si attesta al 34%. Nel corpo professionale le donne sono invece meno rappresentate, ma si registra una tendenza all'aumento. Dal 10,3% di dieci anni fa si è passati al 14,9%. Tra i professori nominati nel 2017, il 29,5% erano donne.
I Politecnici e le relative istituzioni continuano peraltro a godere di un'ottima reputazione nel confronto internazionale. L'ETH di Zurigo figura fra i dieci migliori atenei al mondo, secondo le classifiche del QS World Ranking e di The World Ranking.
Il Politecnico di Losanna (EPFL) conserva da parte sua il primo posto nella categoria degli atenei fondati negli ultimi 50 anni. Anche i quattro istituti di ricerca - l'Istituto Paul Scherrer (PSI), il WSL (foreste e paesaggio), l'Empa (materiali) e l'Eawag (acqua) - si classificano fra i migliori al mondo nei rispettivi settori di attività.
Altri Paesi stanno tuttavia investendo in modo massiccio nella formazione e nella ricerca. L'anno scorso - ricorda la nota - la Cina ha per la prima volta depositato più brevetti europei rispetto alla Svizzera. Per poter rimanere su livelli di eccellenza, il Consiglio dei PF chiede che la Confederazione continui a garantire dei finanziamenti stabili e sufficienti, ma anche ottime condizioni-quadro, come quelle volte ad attirare in Svizzera i migliori talenti.
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